CIF新一代Flash-Evac系列閃蒸成膜儀

簡要描述：CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發誘導成膜"原理研發生產的*薄膜制備設備，通過真空環境加速溶劑蒸發，驅動溶質（如有機小分子、聚合物、金屬鹵化物等）快速自組裝形成均勻納米薄膜。設備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優勢，廣泛應用于鈣鈦礦太陽能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領域。

產品型號：CFE16
廠商性質：生產廠家
更新時間：2025-09-08
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CIF材料表面處理儀器

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品牌	CIF	價格區間	面議
產地類別	國產	應用領域	環保,生物產業,制藥/生物制藥,綜合

CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發誘導成膜"原理研發生產的*薄膜制備設備，通過真空環境加速溶劑蒸發，驅動溶質（如有機小分子、聚合物、金屬鹵化物等）快速自組裝形成均勻納米薄膜。設備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優勢，廣泛應用于鈣鈦礦太陽能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領域。

核心特點

u 智能集成控制：7英寸彩色觸控屏，支持中英文界面，實時監測與調節工藝參數，可存儲20組配方，工藝全程可追溯。

u 雙模式靈活操作：集成PLC控制系統，支持手動/自動一鍵切換，適應多樣研發與量產場景。

u 高質量成膜性能：真空環境促進快速溶劑揮發與溶質有序排列，形成致密均勻、低缺陷的高質量薄膜。

u 氣體與環境控制：內置質量流量計（0–500 sccm），支持惰性氣體保護與HEPA過濾，有效防污，滿足高標準潔凈工藝需求。

u 廣泛兼容與高擴展性：支持多種基底（硅片/玻璃/ITO等）和功能層（電子/空穴傳輸層等）沉積，優化器件性能與穩定性。可選集成加熱臺（RT–200°C）。

u 工藝均勻性：調控溫度、真空度與揮發速率，實現大面積均勻成膜，解決多層器件互溶問題。

u 穩定可靠運行：設備結構穩固，可長時間連續工作，保障工藝一致性與重復性。

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