英國Ossila-Spin Coater
Spin Coater技術性能
- 可在手套箱和通風廚內使用，基座面積僅為22.5x17cm。
- 無需真空泵、充氮氣，節省保養維護費用。
- 創新設計非真空卡盤式吸盤，基材只需放置在卡盤式旋涂托盤適當位置，無需抽真空，就能達到較好的旋涂效果。
- 耐酸堿防腐蝕FEP覆膜操作界面，堅固的不銹鋼外殼，鋼化的玻璃蓋和耐酸堿防腐蝕的襯墊和聚丙烯材質旋涂托盤，使得在各種苛刻條件下仍能保證儀器正常運行。
- 采用液晶顯示+按鍵操作控制界面。智能程序化控制，10個用戶自定義協議，每個協議下可設置10個程序，每個程序多50個步驟。
- 內置水平校準裝置，大限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規格的基片進行旋涂。
- 電磁安全開關，蓋子打開卡盤停止，保證運行安全。
- 轉速穩定性：<2%。
- 轉速：120-6000rpm。
- 定時器：1-1000秒。
- 電源：DC24V、2A, 使用100-240V 50/60Hz電源適配器。
- 尺寸：220x170x132mm。
Spin Coater用于晶片基底材料的表面光刻膠涂覆。勻膠機由樣品臺、滴膠裝置和空心電動機組成，其工作原理是，通過在樣品臺上產生負壓將需要旋涂的基底材料吸附在樣品臺上，光刻膠液滴注在基底材料的表面，通過準確控制電動機的旋轉速度，以此來改變離心力的大小，同時通過控制膠液的流量來達到制備薄膜所需的厚度。
勻膠機在旋涂過程中會出現邊緣效應，這是由于在旋涂的過程中溶劑的揮發導致表面和邊界處光刻膠的濃度和黏度都增大，從而引起邊緣位置較中心位置要厚一些，因此基片邊緣需要經過去邊處理。去邊處理包括基片正面和背面的化學去邊處理，以及基片正面的光學去邊處理。
Spin Coater動態滴膠是指基片在旋轉的過程中將光刻膠滴注到基片的中心位置，通常旋轉速度不宜過快( 500/min),動態滴膠可以在保證快速地在基片表面將光刻膠鋪開的前提下，減少針孔的產生，也可減少光刻膠的使用量。
- 左：普通旋涂機上有真空密封環形印跡 右：Ossila非真空式旋涂效果
地址：北京市豐臺區科興路7號國際企業孵化中心301室
郵箱：cif_lab@163.com
傳真：86-010-63752028